SEM & DUAL BEAM

Ubicación:Location: lma - zaragoza

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La dispersión de rayos X se usa de forma rutinaria para determinar la estructura, la orientación, los parámetros de red y la calidad cristalina en materiales cristalinos (difracción de rayos X), y el espesor, la densidad y la rugosidad de películas delgadas y multicapas (reflectividad de rayos X).
 
La configuración de este equipo está optimizada para estudios de difracción de rayos X de alta resolución (HR-XRD) y reflectividad de rayos X (XRR) en películas delgadas y superredes nanoestructuradas. Para ello incluye monocromadores en los haces incidente y difractado, colimadores, atenuadores y un portamuestras euleriano. Además, permite realizar mapas locales gracias al desplazamiento lateral motorizado de muestras planas.
 
La XRD en el LMA - ELECMI utiliza un difractómetro D8 Advance de Bruker Española S.A. Este instrumento tiene varios modos de operación, incluyendo:
 
  • Difracción de alta resolución en películas y multicapas epitaxiales.
  • Mapas del espacio recíproco.
  • Mapas locales en obleas extensas.
  • Reflectividad de rayos X.
  • Caracterización estructural de películas monocristalinas o texturadas.
  • Difracción en incidencia rasante (GID).

 

El equipo de XRD es utilizado principalmente por investigadores que trabajan en el crecimiento de películas delgadas epitaxiales en las siguientes líneas:
 
  • Películas delgadas tensionadas epitaxialmente.
  • Películas y nanoestructuras magnéticas para aplicaciones en Spintrónica.
  • Películas delgadas y multicapas multiferroicas.
  • Películas de materiales con efectos termoeléctricos (como el efecto Seebeck de spin). 

 

¿Qué tipo de información se puede obtener mediante la XRD?

Las técnicas XRD y XRR proporcionan la siguiente información en películas delgadas:
  • Composición química.
  • Estructura cristalina.
  • Parámetros de red.
  • Orientación de sustrato y película.
  • Ángulo de desviación del corte en sustratos monocristalinos.
  • Calidad cristalina y textura.
  • Rugosidad.
  • Densidad.
  • Espesor.
  • Defectos, dislocaciones.
  • Tensión.

 

Requisitos de las muestras:

Aunque esta instalación es muy versátil y es posible el análisis de muestras de polvo, la configuración actual está optimizada para el estudio de películas delgadas.

 

Especificaciones técnicas:

  • Fuente de rayos X con ánodo de cobre.
  • Monocromador de Ge (022) (línea Cu Kα1).
  • Óptica de haz paralelo (espejo de Göbel).
  • Cuna euleriana y plataforma de traslación XYZ.
  • Plataforma reclinable (Zeta y Xi) para incidencia rasante.
  • Dispositivo de succión para fijar muestras planas.
  • Rendijas de Soller.
  • Atenuador del haz de rayos X.
  • Control automático de alineamiento con microscopio y láser.
  • Detector de centelleo.
  • Programas de análisis y bases de datos.

 

Imágenes: